江蘇微導納米科技股份有限公司

産品技術

半導體

集成電路

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

先進封裝

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

MEMS

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

矽基微顯示

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

其他

Trancendor®晶圓真空傳輸系統

光伏

硼擴散

羲和®系列高溫低壓系統

退火

羲和®系列高溫低壓系統

隧穿氧化/多晶矽沉積

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃

誇父®系列KF20000批量式ALD系統

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統

阻隔封裝

電子傳輸層 SnOₓ

界面層/封裝層 AIOₓ

産業化應用中心

iOptomic 系列原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

後羿®系列闆式ALD系統

iSparol系列卷對卷ALD系統

iTomic® MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統

先進封裝

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統可根據不同溫度要求制備氧化矽、氮化矽、氮氧化矽等薄膜制備工藝及應用，通過精準快速控制成膜速度、低溫反應溫度、材料配比等技術，完美實現材料厚度均勻性、膜應力，熱過程，以及階梯覆蓋率等極具挑戰的工藝需求，技術達到國際先進水平。iTomic® PE系列設備可爲邏輯芯片、存儲芯片、先進封裝等提供客制化掩膜層、介質層、圖案化等關鍵工藝解決方案。

銷售郵箱

産品特點

采用獨特的Thunder Balance®技術，實現射頻效果的毫秒級切換，具有工藝穩定性好、循環周期短等特點

多區加熱系統确保反應溫度的均勻性及穩定性，大大提高薄膜的均勻性

薄膜材料：SiO₂、低溫 SiO₂、SiN等

采用特有的Hydro Thermal技術，實現低溫工藝平穩可控，滿足低溫沉積工藝應用

多腔設計,可搭載1至多個PM，每個PM具有1至多個工藝站，可實現高産能、低成本的生産解決方案