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創新驅動
以原子層沉積(ALD)技術爲核心
化學氣相沉積(CVD)等多種真空薄膜技術梯次發展

原子層沉積 (ALD)技術:

可在複雜形貌上完成可控制在原子層精度的高質量薄膜沉積

具有:

三維共形性,廣泛适用于不同形狀的基底

大面積成膜的均勻性,且緻密、無針孔

可實現亞納米級的薄膜厚度控制

精确控制納米疊層和原子摻雜比例

視頻播放

研發創新

20%

+

研發投入/營收

56200

生産研發基地

3000

+

專有技術(項)

35%

+

研發人員占比

核心技術團隊

專業團隊

行業權威,擁有數十年ALD+CVD應用開發經驗

工藝開發

團隊工藝開發經驗豐富,已開發應用數10種氧化物,氮化物,金屬等材料

專精ALD廠商

專業ALD

專注ALD工藝和應用場景,涵蓋半導體、新型顯示、新能源等行業

專業解決方案

針對客戶不同需求,專業化和定制化提出解決方案

國内領先前瞻應用定制化

前瞻應用

精通ALD前瞻應用,滿足客戶各類先進性産品的需求

定制開發

精通ALD工藝及應用場景,爲客戶定制化開發可量産的工藝及設備

國内唯一全場景Demo設備線

全場景Demo

全場景Demo經驗豐富,爲客戶提供全方位解決方案支持

量産經驗

在邏輯、存儲、化合物半導體等領域經過量産驗證,并獲得重複訂單

智造創新

我們推行精益生産管理,搭建智能制造協同平台(簡稱MES),采用Smart Lable等智能工廠物流系統,實現了生産計劃排程、生産進度實時分析、生産資源有效分配、 産品質量安全追溯等,進一步縮短采購周期、提升生産效率、降低經營成本,以數字化、智能化制造賦能創新發展。

半導體設備規劃産能

總面積≈5000㎡,共三期
年産能:140套

光伏設備規劃産能

總面積≈20000㎡
月産能:ALD主機+自動化,40台
擴散/poly/退火/ALD/管P,60台

服務創新

我們始終堅持以客戶爲中心的服務理念,發揮本土供應商的優勢,爲客戶提供量身定制的全方位服務,持續幫助客戶優化系統性能,減少成本,快速響應市場需求。
提供專用/定制工具
1/7
質保期内365天*24小時技術支持
2/7
立即響應客戶端需求,重大疑問2小時内給出解決方案,24小時内到達現場處理
3/7
客戶端設立備件庫,關鍵/易損部件備貨100%,非常規件到達現場<36小時
4/7
質保結束後,每年現場協助客戶設備巡檢2次,軟件終身免費升級
5/7
項目有專職工程師跟蹤服務,專業專一
6/7
長期保存圖紙,20年零部件供應,解決後顧之憂
7/7