江蘇微導納米科技股份有限公司

産品技術

半導體

集成電路

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

先進封裝

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

MEMS

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

矽基微顯示

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

其他

Trancendor®晶圓真空傳輸系統

光伏

硼擴散

羲和®系列高溫低壓系統

退火

羲和®系列高溫低壓系統

隧穿氧化/多晶矽沉積

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃

誇父®系列KF20000批量式ALD系統

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統

阻隔封裝

電子傳輸層 SnOₓ

界面層/封裝層 AIOₓ

産業化應用中心

iOptomic 系列原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

後羿®系列闆式ALD系統

iSparol系列卷對卷ALD系統

iTomic® MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統

集成電路

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積（CVD）系統采用自主研發的反應腔室和電氣軟件集成化服務，在邏輯、存儲、先進封裝、顯示器件等芯片制造領域具有廣泛應用，可滿足多種功能性薄膜沉積工藝的開發和應用需求。搭載新型平台可安裝更多反應腔以滿足高産能需求。

銷售郵箱

産品特點

高精度壓力調節控制技術，提高薄膜階梯覆蓋率

可以控制膜的成份和結構，滿足多元摻雜工藝需求

自主研發高精度制程邊緣控制技術，減少晶圓去邊，提高晶圓利用率

帶ESC多區加熱陶瓷盤，可以實現高溫工藝，減少背面沉積，避免等離子體損傷

自主設計的多區域吹掃功能，減少顆粒污染，延長清洗周期

多區域溫度控制設計，溫度控制精度高，薄膜均勻性好