首頁
關于微導
公司概況
市場戰略
發展曆程
資質榮譽
創新驅動
研發創新
智造創新
服務創新
産品及解決方案
半導體
光伏
産業化應用中心
新聞中心
公司動态
行業資訊
展會活動
社會責任
招賢納士
薪資福利
員工風采
崗位招聘
聯系我們
聯系方式
客戶入口
供應商入口
投資者關系
CN
首頁
關于微導
公司概況
市場戰略
發展曆程
資質榮譽
創新驅動
研發創新
智造創新
服務創新
産品及解決方案
新聞中心
公司動态
行業資訊
展會活動
社會責任
招賢納士
薪資福利
員工風采
崗位招聘
聯系我們
聯系方式
客戶入口
供應商入口
投資者關系
産品技術
半導體
集成電路
iTomic® HiK系列原子層沉積系統
iTronix®系列化學氣相沉積系統
iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統
iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統
先進封裝
iTronix®系列化學氣相沉積系統
iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統
iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統
MEMS
iTomic® HiK系列原子層沉積系統
iTronix®系列化學氣相沉積系統
iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統
iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統
矽基微顯示
iTronix®系列化學氣相沉積系統
iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統
泛半導體
iTomic® HiK系列原子層沉積系統
iTronix®系列化學氣相沉積系統
iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統
iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統
其他
Trancendor®晶圓真空傳輸系統
光伏
硼擴散
羲和®系列高溫低壓系統
退火
羲和®系列高溫低壓系統
隧穿氧化/多晶矽沉積
祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統
正膜Al₂O₃/SiNₓ
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統
正膜Al₂O₃
誇父®系列KF20000批量式ALD系統
背膜SiNₓ
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統
阻隔封裝
電子傳輸層 SnOₓ
界面層/封裝層 AIOₓ
産業化應用中心
産業化應用中心
iOptomic 系列原子層沉積系統
iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統
後羿®系列 闆式ALD系統
iSparol系列卷對卷ALD系統
iTomic® MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統
其他
Trancendor®晶圓真空傳輸系統
Trancendor®平台系列是微導納米獨立研發的、适用于高産能半導體制程設備的晶圓傳輸系統。該系統可根據客戶工藝需要,靈活挂載一至多個工藝腔體(每個工藝腔體可配備一至多個工作站)在真空環境下進行快速高效晶圓傳輸。
銷售郵箱
産品特點
針對各種機械運動産生的顆粒、金屬污染等嚴苛需求,進行特殊設計,可有效避免晶圓表面微塵和金屬污染
1
提升平台的産能輸出的設計
2
提升系統服務性的特殊設計
3
具備晶圓傳輸位置的自動校準功能,确保傳送精确度和工藝均勻性等要求
4