江蘇微導納米科技股份有限公司

産品技術

半導體

集成電路

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

先進封裝

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

MEMS

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

矽基微顯示

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

其他

Trancendor®晶圓真空傳輸系統

光伏

硼擴散

羲和®系列高溫低壓系統

退火

羲和®系列高溫低壓系統

隧穿氧化/多晶矽沉積

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃

誇父®系列KF20000批量式ALD系統

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統

阻隔封裝

電子傳輸層 SnOₓ

界面層/封裝層 AIOₓ

産業化應用中心

iOptomic 系列原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

後羿®系列闆式ALD系統

iSparol系列卷對卷ALD系統

iTomic® MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統

硼擴散

羲和®系列高溫低壓系統

羲和系列高溫低壓系統采用原創設計的高溫熱場控制技術，真正實現了兼容磷、硼兩種擴散工藝，其中硼擴散工藝又兼容BBr₃和BCl₃兩種工藝源。獨創的冷卻技術可提升設備與零件的使用壽命，同時縮短了工藝時間，爲PERC+和TOPCon等下一代量産高效電池的提效降本，提供了全套的主機及先進的工藝解決方案。此外，羲和系統也提供退火，氧化和低壓化學氣相沉積（LPCVD）功能。

銷售郵箱

産品特點

适用于PERC, TOPCon, XBC等高效電池技術路線的應用

超高載片量，182尺寸矽片載片量爲2880片/管，兼容182mm到230mm尺寸矽片

設備多功能設計，可兼容磷摻雜、硼摻雜、退火或是LPCVD多晶矽功能

創新放片方式，改善高溫工藝良率問題與單管裝片量