江蘇微導納米科技股份有限公司

産品技術

半導體

集成電路

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

先進封裝

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

MEMS

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

矽基微顯示

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

其他

Trancendor®晶圓真空傳輸系統

光伏

硼擴散

羲和®系列高溫低壓系統

退火

羲和®系列高溫低壓系統

隧穿氧化/多晶矽沉積

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃

誇父®系列KF20000批量式ALD系統

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統

阻隔封裝

電子傳輸層 SnOₓ

界面層/封裝層 AIOₓ

産業化應用中心

iOptomic 系列原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

後羿®系列闆式ALD系統

iSparol系列卷對卷ALD系統

iTomic® MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統采用創新的批量型（mini-batch）腔體設計，可一次處理25片12英寸晶圓，适用于成膜鍍率低，厚度要求高，以及産能要求高的關鍵工藝及應用。iTomic® MW系列産品利用特有的流場設計，具有成膜速度快，占地面積小，産能高、使用成本低等優勢，爲存儲芯片以及Micro-OLED顯示器、MEMS等提供定制化量産的解決方案。

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産品特點

25片12寸晶圓（兼容8寸晶圓）MW ALD系統，适用于厚膜或生長率較低的工藝需求

提供優異的薄膜片内（WiW）和片間（WtW）均勻性，更好地滿足客戶工藝需求

薄膜材料：Al₂O₃、HfO₂、SiO₂等

與爐管型設備相比，MW ALD系列在減少顆粒度的同時大大降低了熱過程，避免芯片器件在制程中的熱損傷

特别适用于高産能、超高深寬比結構器件的量産化鍍膜工藝