江蘇微導納米科技股份有限公司

産品技術

半導體

集成電路

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

先進封裝

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

MEMS

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

矽基微顯示

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

其他

Trancendor®晶圓真空傳輸系統

光伏

硼擴散

羲和®系列高溫低壓系統

退火

羲和®系列高溫低壓系統

隧穿氧化/多晶矽沉積

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃

誇父®系列KF20000批量式ALD系統

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統

阻隔封裝

電子傳輸層 SnOₓ

界面層/封裝層 AIOₓ

産業化應用中心

iOptomic 系列原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

後羿®系列闆式ALD系統

iSparol系列卷對卷ALD系統

iTomic® MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統

集成電路

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTomic® HiK系列原子層沉積系統，适用于客戶制程高介電常數（High- 𝘬 ）栅氧層、MIM電容器絕緣層、TSV介質層等薄膜工藝需求；ALD系列設備憑借原子級别的精确控制、沉積薄膜的高覆蓋率和超薄膜厚的均勻性可爲邏輯芯片、存儲芯片提供介質層等關鍵工藝解決方案，技術和設備指标達到國内一流、國際先進水平。

銷售郵箱

産品特點

12英寸單片熱ALD量産設備（兼容8英寸）

采用原創設計的反應腔和源輸送加熱系統，可滿足優異的薄膜均勻性和重複性，更适合三維和高深寬比器件結構的薄膜生長

薄膜材料：Al₂O₃、HfO₂、HfSiO、SiO₂、金屬化等工藝

配置有4種獨立的高溫前驅體輸送系統，滿足ALD薄膜多元化摻雜工藝需求