江蘇微導納米科技股份有限公司

産品技術

半導體

集成電路

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

先進封裝

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

MEMS

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

矽基微顯示

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® HiK系列原子層沉積系統

iTronix®系列化學氣相沉積系統

iTomic® MW系列批量式原子層沉積系統

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

其他

Trancendor®晶圓真空傳輸系統

光伏

硼擴散

羲和®系列高溫低壓系統

退火

羲和®系列高溫低壓系統

隧穿氧化/多晶矽沉積

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統

正膜Al₂O₃

誇父®系列KF20000批量式ALD系統

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統

阻隔封裝

電子傳輸層 SnOₓ

界面層/封裝層 AIOₓ

産業化應用中心

iOptomic 系列原子層沉積系統

iTomic® PE系列等離子體增強原子層沉積系統

後羿®系列闆式ALD系統

iSparol系列卷對卷ALD系統

iTomic® MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統

泛半導體

iTomic® Lite系列輕型原子層沉積系統

iTomic® Lite輕型系列原子層沉積系統采用原創設計開發的自動化平台與模塊化ALD反應腔相結合，以國産化零部件爲主導，可以按需配置PEALD或Thermal ALD等工藝需求。Lite ALD系列設備具有強大的兼容性，其硬件配置在保持量産機型強大功能的前提下，可滿足各類晶圓尺寸（6、8英寸）量産工藝需求，同時也可滿足客戶高端研發和新工藝試量産需求。Lite ALD系列可廣泛應用于MEMS、光電器件等泛半導體器件領域。

銷售郵箱

産品特點

靈活兼容Thermal ALD和PEALD工藝應用

自由配置半自動或全自動系統

薄膜材料：Al₂O₃、SiO₂、TiO₂、ZnO、氮化物等

滿足6、8英寸晶圓量産工藝需求

滿足高端研發客戶需求及新工藝的開發和量産